化學機械拋光機（CMP）產品及廠家
p-1金相臺式拋光機p-1金相臺式拋光機適用于對經磨光后的金屬材料進行拋光，可獲得光亮如鏡的金屬表面，供在顯微鏡下觀察與測定金相組織。p-1蔚儀技術參數 :拋盤直徑 φ200mm 轉速：1400r/m
更新時間:2024-12-27
金相立式拋光機p-2金相立式拋光機p-2拋盤直徑：φ200mm,轉速：1400r/min或900r/min（可選）。p-2簡介：p-2是采集多方面使用人員的意見和要求設計而成的，它具有結構合理、傳動平
更新時間:2024-12-27
lp-2立式雙盤金相試樣拋光機lp-2立式雙盤金相試樣拋光機是進行拋光工作的良好設備，本機轉動平穩，噪音小，操作輕便靈活，維護保養極為方便，符合廣大金相實驗室的需要。詳細介紹：在制備金相試樣過程中，拋
更新時間:2024-12-27
pg-2a金相試樣拋光機pg-2a金相試樣拋光機適用于對經磨光后的金屬材料進行拋光，可獲得光亮如鏡的金屬表面，供在顯微鏡下觀察與測定金相組織。pg-2a介紹pg-2a, 有焊接工作臺、工作
更新時間:2024-12-20
p-2t金相臺式拋光機p-2t金相臺式拋光機，可供兩人同時操作，本機轉動平穩，噪音小，用本機對試樣進行拋光可獲得光亮如鏡的表面，供在顯微鏡下觀察與測定金相組織。技術參數:電動機功率：180w拋盤直徑：
更新時間:2024-12-20
gnp poli-762是高通用性12英寸(300mm) cmp工藝而開發，也為先進晶圓制造商和耗材供應商設計的。gnp poli-500廣泛用于耗材供應商，襯底制造商和芯片開發商的8“(200mm)高研發評估。gnp poli-400l是為先進的化學機械拋光工藝開發應用，如mems, as以及化學機械拋光特性研究。該系統擁有成本低，占地面積小。
更新時間:2024-08-14
全自動cmp拋光機是一款針對薄膜（介質層）的全自動拋光設備，操作便捷，兼容性強，通過更換拋光壓頭實現不同尺寸晶圓的兼容，采用自動化裝片方式，機械手自動取放片，同時搭配雙面pva滾刷進行在線刷洗功能，實現干進干出，用于氧化物、金屬、sti、soi、mems等產品的平坦化拋光，應用廣泛。
更新時間:2024-08-13
cmp拋光機是一款針對薄膜（介質層）的拋光設備，操作便捷，兼容性強，通過更換拋光壓頭實現不同尺寸晶圓的兼容，采用手動裝片方式，可配置半自動loading系統，氣囊薄膜柔性加壓，用于氧化物、金屬、sti、soi、mems等產品的平坦化拋光，應用廣泛。
更新時間:2024-08-13
cmp拋光機是一款針對薄膜（介質層）的拋光設備，操作便捷，兼容性強，通過更換拋光壓頭實現不同尺寸晶圓的兼容，采用手動裝片方式，可配置半自動loading系統，氣囊薄膜柔性加壓，用于氧化物、金屬、sti、soi、mems等產品的平坦化拋光，應用廣泛。
更新時間:2024-08-13
poli-400lcmp拋光機是4&6英寸小型化學機械拋光機，采用手動裝片方式，氣囊薄膜柔性加壓，可配置摩擦力&溫度終點監控系統，用于氧化物、金屬、sti、soi、mems等產品的平坦化拋光，應用廣泛。
更新時間:2024-08-13
poli-762是小型12英寸cmp機臺，采用手動裝片方式，可選配半自動loading托盤，氣囊薄膜柔性加壓，可配置摩擦力&溫度終點監控系統，用于氧化物、金屬、sti、soi、mems等產品的平坦化拋光，應用廣泛。
更新時間:2024-08-13
poli-500是小型8英寸cmp機臺，采用手動裝片方式，可選配半自動loading托盤，氣囊薄膜柔性加壓，可配置摩擦力&溫度終點監控系統，用于氧化物、金屬、sti、soi、mems等產品的平坦化拋光，應用廣泛。如有需要半導體設備和進口半導體設備的朋友歡迎電話咨詢我們！
更新時間:2024-08-13
雙面拋光機分為雙面機械拋光和雙面化學拋光兩種，分別代表雙面拋光的粗加工和精加工。主要用于晶片的表面拋光，操作簡單，搭配不同的夾具，拋光墊，拋光液可以實現不同材料，不同尺寸，不同厚度的晶片拋光。
更新時間:2024-08-13
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