真空濺射蒸鍍用品產品及廠家
高低溫真空探針臺kt-z160t-rl，真空高低溫探針臺系統，使用國際上先進的溫度控制系統和傳感器，溫度范圍為77.15k至673.15k（-196攝氏度到400攝氏度），溫度穩定性可達0.1k。
更新時間:2024-12-27
小型坩堝真空蒸鍍儀kt-z1650cvd電阻式熱蒸發鍍膜機是鄭州科探儀器設備有限公司生產，臺式設計、軟件自動操控、高性價比，非常適合實驗室科研使用。 通過加熱蒸發某種物質使其沉積在固體表面。
更新時間:2024-12-27
小型真空鎢舟熱蒸鍍儀kt-z1650cvd是一款小型多功能鍍膜儀，額定1800度高溫，自動樣品擋板，靶臺旋轉，觸摸屏多段控制，工藝儲存等功能。
更新時間:2024-12-27
hmds預處理系統通過對烘箱預處理過程的工作溫度、處理時間、處理時保持時間等參數的控制可以在硅片、基片表面均勻涂布一層hmds，改變了hmds處理后的硅片接觸角，降低了光刻膠的用量，提高光刻膠與硅片的黏附性。適用于硅片、砷化鎵、陶瓷、不銹鋼、鈮酸鋰、玻璃、藍寶石、晶圓等材料預處理及相關行業。
更新時間:2024-12-27
磚瓦爆裂蒸煮箱zsa-5a一、磚瓦爆裂蒸煮箱簡介：本產品按照國家gb5101-85關于磚瓦石灰爆裂試驗的要求而設計制造的。能自動控制箱體內水溫100℃ 的時間，溫度數顯，時間數顯，內膽進口不銹鋼板制作
更新時間:2024-09-06
磚瓦爆裂蒸煮箱zsa-5a一、磚瓦爆裂蒸煮箱簡介：本產品按照國家gb5101-85關于磚瓦石灰爆裂試驗的要求而設計制造的。能自動控制箱體內水溫100℃ 的時間，溫度數顯，時間數顯，內膽進口不銹鋼板制作
更新時間:2024-07-31
磚瓦(石灰)爆裂蒸煮箱一、簡介：本產品按照國家gb5101-85關于磚瓦石灰爆裂試驗的要求而設計制造的。能自動控制箱體內水溫100℃ 的時間，溫度數顯，時間數顯，內膽進口不銹鋼板制作。磚瓦爆
更新時間:2024-07-21
卷繞式真空蒸鍍設備 ew系列塑料薄膜、紙、金屬箔等連續卷繞的同時，對金屬和氧化物進行蒸鍍的成膜設備。從小型的實驗機到大量的生產設備，此外，還提供一系列用于包裝材料，電容器，磁帶等其他應用的型號。
更新時間:2024-06-27
磚瓦爆裂蒸煮箱zsa-5a一、磚瓦爆裂蒸煮箱簡介：本產品按照國家gb5101-85關于磚瓦石灰爆裂試驗的要求而設計制造的。能自動控制箱體內水溫100℃ 的時間，溫度數顯，時間數顯，內膽進口不銹鋼板制作
更新時間:2024-06-25
zsx-51磚瓦爆裂蒸煮箱 磚瓦(石灰)爆裂蒸煮箱 一、磚瓦爆裂蒸煮箱 磚瓦(石灰)爆裂蒸煮箱簡介：本產品按照國家gb5101-85關于磚瓦石灰爆裂試驗的要求而設計制造的。能自動控制箱體內水
更新時間:2024-05-13
nte-3000熱蒸發系統概述：nano-master nte-3000是一款pc計算機控制的臺式熱蒸發系統，在有機物和金屬沉積方面具有廣泛的應用。設備的設計經過非常慎重的考慮:在小的占地面積情況下實現干凈、均勻、可控及可重復的工藝過程。它們具有低價格, 高性能以及高能力的特點，可滿足于客戶研發及小規模生產的應用要求。 nte-3000熱蒸發系統可以在設定的rms電流下，或者在閉環的配置下操作，并且在這種情況下沉積速度的變化被用于調節rms電流以維持恒定的沉積速度。
更新時間:2024-03-28
nano-master杰出的濺射系統可構建成多腔體和多蒸發源的配置，在介質上濺射金屬和介質材料，最大可支持200mm的襯底。系統可以配置dc直流、rf射頻和pulse dc脈沖直流等電源來進行序列濺射或共濺射。 系統使用渦輪分子泵組，工藝腔極限真空可達5 x 10-7torr。可以通過調節靶基距，實現所需要的均勻度和沉積速率的調節。旋轉樣品臺可提供薄膜最優的均勻性。
更新時間:2024-03-28
磚瓦爆裂蒸煮箱zsa-5a一、磚瓦爆裂蒸煮箱簡介：我廠生產磚瓦爆裂蒸煮箱，本產品按照國家gb5101-85關于磚瓦石灰爆裂試驗的要求而設計制造的。能自動控制箱體內水溫100℃ 的時間，溫度數顯，時間數
更新時間:2023-12-12
小型蒸鍍儀介紹： kt-z1650dm小型蒸鍍儀是一款小型臺式加熱功率可控蒸發鍍膜儀，儀器雖小功能齊全，配備有電壓 電流反饋,樣品臺旋轉，樣品高度調節，及電動擋板功能。通過定時調
更新時間:2023-10-14
小型蒸鍍儀 鄭科探kt-z1650cvd是一款小型臺式加熱功率可控蒸發鍍膜儀，儀器雖小功能齊全，配備有電壓 電流反饋,樣品臺旋轉，樣品高度調節，及電動擋板功能。通過定時調節預熱功率及蒸發功率，可對大部
更新時間:2023-10-06
桌面式高溫蒸鍍儀小型蒸鍍儀是一種在真空條件下加熱蒸發容器中待蒸發材料的方法，以使原子或分子蒸發并從表面逸出以形成蒸氣流，進入基材或基材表面，然后凝結成固體膜。 小型蒸鍍儀包括以下基本過程： （1）
更新時間:2023-09-26
高溫真空蒸鍍儀，是一款小型真空鍍膜儀，特別適合蒸鍍一些輕金屬，如 al. mg, 和li等。同時也可對樣品進行鍍碳處理，z大可處理的樣品直徑為50mm.。標準的旋轉樣品臺可進行傾斜調節，非常容易適應各
更新時間:2023-09-17
小型蒸鍍儀鄭州科探儀器kt-z1650cvd是一款小型臺式加熱功率可控蒸發鍍膜儀，儀器雖小功能齊全，配備有電壓 電流反饋,樣品臺旋轉，樣品高度調節，及電動擋板功能。通過定時調節預熱功率及蒸發功率，可對
更新時間:2023-08-06
小型蒸鍍儀小型臺式濺射功率可控磁控濺射儀，儀器雖小功能齊全，配備有電壓 電流反饋,樣品臺旋轉，樣品高度調節，及電動擋板功能。 小型蒸
更新時間:2023-08-04
小型蒸鍍儀鄭州科探儀器kt-z1650cvd是一款小型臺式加熱功率可控蒸發鍍膜儀，儀器雖小功能齊全，配備有電壓 電流反饋,樣品臺旋轉，樣品高度調節，及電動擋板功能。通過定時調節預熱功率及蒸發功率，可對
更新時間:2023-07-19
小型蒸鍍儀鄭州 科探kt-z1650cvd，臺式設計、軟件自動操控、高性價比，非常適合實驗室科研使用。 通過加熱蒸發某種物質使其沉積在固體表面，稱為熱蒸發鍍膜，熱蒸發鍍膜技術是歷史最悠久的pvd鍍膜技
更新時間:2023-07-16
小型真空鎢舟熱蒸鍍儀kt-z1650cvd是一款小型多功能鍍膜儀，額定1800度高溫，自動樣品擋板，靶臺旋轉，觸摸屏多段控制，工藝儲存等功能。正空蒸發鍍膜包括以下基本過程：（1）加熱蒸發過程：包括由凝
更新時間:2023-07-13
桌面式小型蒸鍍儀kt-z1650cvd臺式設計、軟件自動操控、高性價比，非常適合實驗室科研使用。 通過加熱蒸發某種物質使其沉積在固體表面，稱為熱蒸發鍍膜，熱蒸發鍍膜技術是歷史最悠久的pvd鍍膜技術之
更新時間:2023-07-01
小型蒸鍍儀 鄭州科探kt-z1650cvd是我公司專為科研院所及實驗室用戶群體設計開發的一款小型高真空蒸發鍍膜系統。采用大抽速分子泵準無油高真空系統，機架電控一體化設計，整體布局緊湊合理，充分考慮人機
更新時間:2023-06-25
小型坩堝真空蒸鍍儀kt-z1650cvd小型蒸鍍儀 鄭州科探kt-z1650cvd，臺式設計、軟件自動操控、高性價比，非常適合實驗室科研使用。 通過加熱蒸發某種物質使其沉積在固體表面，稱為熱蒸發鍍膜，
更新時間:2023-06-12
鄭科探小型蒸鍍儀-熱蒸發源：電阻式熱蒸發舟，交流電源；-腔體：不銹鋼或石英腔體可供客戶選擇；-泵：前級干泵，分子泵；工藝控制：pc/plc機制的自動控制、數據處理、工藝記憶儲存；-襯底固定：單襯底固定
更新時間:2023-06-01
真空小型蒸鍍儀kt-z1650cvd ? 設備一體化設計，占地面積小，*，性能穩定，使用維護成本低；? 設備兼容有機蒸發與無機蒸發，多元共蒸獲得復合膜/分蒸獲得多層膜，功能強大，
更新時間:2023-05-27
鄭科探小型蒸鍍儀-熱蒸發源：電阻式熱蒸發舟，交流電源； - 腔體：不銹鋼或石英腔體可供客戶選擇； - 泵：前級干泵，分子泵； - load lock樣品傳輸腔室：手動或自動傳輸，高真空，支持多種樣品襯
更新時間:2023-05-25
粉末坩堝蒸鍍儀鉻是受歡迎的金屬之一。鉻是一種銀色，有光澤，堅硬，含雜質的鉻硬而脆，具有很高的耐腐蝕性。它的熔點為1857℃，密度為7.2g / cm3，。它的名字來自希臘語“chroma”，意思是顏色
更新時間:2023-05-24
高純度金顆粒蒸鍍儀采用電子束蒸鍍金膜時,會有微小的黑色顆粒出現在金膜的表面,這些黑色的顆粒形狀大多不規則,尺寸集中在100 nm～-1μm之間,傳統的蒸鍍理論較難解釋這些黑色顆粒的成因。本文嘗試提出液
更新時間:2023-05-09
我公司生產的二氧化鋯產品為真空鍍膜材料，包括：各種規格的二氧化鋯壓片，白色二氧化鋯，高純二氧化鋯。二氧化鋯鍍膜材料性能：放氣量小，適于電子槍蒸發，膜層致密，牢固，抗化學腐蝕，用于多層膜、增透膜、 裝飾膜 、反射防止膜。規格大小可以根據客戶要求而做。同時我公司還生產各種氧化鋯陶瓷件。
更新時間:2023-04-23
電阻式熱蒸發鍍膜機 電阻式熱蒸發鍍膜機是鄭州科探儀器設備有限公司生產，臺式設計、軟件自動操控、高性價比，非常適合實驗室科研使用。 通過加熱蒸發某種物質使其沉積在固體表面小型蒸鍍儀鄭州科探kt-z165
更新時間:2023-04-17
小型蒸鍍儀是一款小型臺式加熱功率可控蒸發鍍膜儀器，可對大部分金屬進行蒸發沉淀，制備各種金屬薄膜和有機物薄膜。
更新時間:2023-03-29
喬邦鍍銀鍍金鍍鎳xd-1000技術指標1. 元素分析范圍：氯（cl）- 鈾（u）2. 涂鍍層分析范圍：氯（cl）/鋰（li）- 鈾（u）3. 厚度檢出限：0.005μm4
更新時間:2022-06-26
不同的蒸發速率下沉積300nm的au薄膜,研究蒸發速率對薄膜表面形貌和性能的影響。隨著蒸發速率的提高,薄膜的結構變得致密,晶粒尺寸和表面粗糙度減小。高純度金靶材磁控濺射儀kt-z1650pvd在較短時間內即可形成具有細粒度的均勻薄膜，儀器結構緊湊，全自動控制，設計符合人體工程學。
更新時間:2022-04-27
粉末坩堝蒸鍍儀kt-z1650cvd是我公司為科研院所及實驗室用戶群體設計開發的一款小型高真空蒸發鍍膜系統。蒸發源可兼容金屬、有機物蒸發、金屬粉末等。配有樣品擋板，可手動或自動開/關擋板，達到及時遮擋樣品效果；觸摸屏控制，操作簡單，更有工藝儲存等功能。
更新時間:2022-04-27
真空鍍銅蒸鍍儀kt-z1650cvd是一款小型高真空蒸發鍍膜系統。蒸發源可兼容金屬、有機物蒸發。廣泛應用于高校、科研院所制備功能薄膜、蒸鍍電、掃描電鏡制樣等。鍍銅可打底用，增進電鍍層附著能力，及抗蝕能力。
更新時間:2022-04-27
以銅 (cu) 濺射靶材為例.在制備銅濺射靶時,不可避免地會引入硫、鉛等其他雜質含量.微量的硫可以防止熱加工時晶粒尺寸增大或產生微裂紋;但當硫元素含量高于18 ppm時,會出現微裂紋;隨著兩種雜質元素(硫和鉛)，銅靶材鍍膜濺射儀kt-z1650pvd為臺式磁控濺射鍍膜機，儀器結構緊湊，全自動控制，設計符合人體工程學，所得結果一致，可重復性高
更新時間:2022-04-27
銀是一種柔軟，有光澤的元素，屬于元素周期表中的金屬過渡族。它的熔點為961.78℃，密度為10.49g /cm3.銀的理化性質均較為穩定，導熱、導電性能很好，質軟，富延展性。銀的理化性質均較為穩定，導熱、導電性能很好，質軟，富延展性。其反光率高，可達99%以上。銀靶材離子濺射儀kt-z1650pvd在較短時間內即可形成具有細粒度的均勻薄膜，儀器結構緊湊，全自動控制，設計符合人體工程學。
更新時間:2022-04-27
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