x 射線光電子能譜(xps)是材料科學和發展的領域中最廣泛使用的表面分析技術。其原理是利用x射線束(一般會使鋁陽極或鎂陽極)作為入射源,照射在樣品表面導致讓光電子從原子的核心層被激發出。根據測得的光電子所發出的電子動能,再依照能量守恒定律就可以知道電子的結合能,從而也就可知道樣品表面是何物質。the phi 5000 versaprobe ii (vp-ii) 能提供高性能的微區光譜,化學成像,二次電子成像,其最小的x射線束光柵掃描直徑約為10微米。x射線束的大小可以輕易的使用電腦控制在直徑10微米到400微米設定,從而達到最好的空間解釋度與最高的靈敏度。vp-ii 可以輕易的對不管是導體或非導體獲取化學態的成像 或是離子濺射的深度分析,樣品例子如催化劑,金屬和電子設備,玻璃和聚合物,甚至是生物材料和組織等等。
phi quantera ii 掃描x射線光電子能譜儀(xps)是ulvac-phi公司以在業界獲得非常卓越成績的quantum 2000和quantera sxm之上延申后所zui新研發的xps分析儀器,其超卓技術包括有:一個獨創微集中掃描的x射線來源,專利的雙光束的電荷中和技術,在極低電壓下仍可保持高性能的離子束源以進行xps的深度分析,一個五軸精密的樣品臺和負責全自動樣品傳送的機械手臂,與及一個完全自動化且可支持互聯網遠程控制的儀器操作平臺。quantera ii 掃描x射線光電子能譜儀(xps)增加了這些技術性能和生產力,再一次提供了zui高性能的xps系統,以滿足您當前和未來的xps需要。